DESIGN AND OPTIMIZATION OF MAGNETIC LENSES AND DEFLECTION SYSTEMS FOR ELECTRON-BEAMS

被引:49
作者
MUNRO, E [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期
关键词
D O I
10.1116/1.568477
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1146 / 1150
页数:5
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