PHYSICOCHEMICAL PROPERTIES IN TUNGSTEN FILMS DEPOSITED BY RADIO-FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING

被引：33

作者：

COLLOT, P

AGIUS, B

ESTRACHE, P

HUGON, MC

FROMENT, M

BESSOT, J

CRASSIN, Y

机构：

[1] UNIV PARIS 11,INST TECHNOL,F-91406 ORSAY,FRANCE

[2] UNIV PARIS 06,CNRS,F-75230 PARIS 05,FRANCE

[3] ALCATEL DEPT SDG,F-92240 MALAKOFF,FRANCE

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1988年 / 6卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.575583

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：2319 / 2325

页数：7