PARTICLE DEPOSITION ON WAFERS - A COMPARISON BETWEEN 2 MODELING APPROACHES

被引:7
作者
PETERSON, TW [1 ]
SANNES, KM [1 ]
STRATMANN, F [1 ]
FISSAN, H [1 ]
机构
[1] UNIV DUISBURG GESAMTHSCH, D-4100 DUISBURG, FED REP GER
关键词
D O I
10.1016/0021-8502(88)90186-3
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
引用
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页码:1409 / 1412
页数:4
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