X-RAY PRODUCED CHARGE DEPOSITION AND DOSE IN DIELECTRICS NEAR INTERFACES INCLUDING SPACE-CHARGE FIELD AND CONDUCTIVITY EFFECTS

被引：13

作者：

CHADSEY, WL ^{[1
]}

机构：

[1] SCI APPL INC,MCLEAN,VA 22101

来源：

IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE | 1974年 / NS21卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1109/TNS.1974.6498934

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

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页码：235 / 242

页数：8

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共 13 条

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