INFLUENCE OF BIASED MAGNETRON DEPOSITION PARAMETERS ON AMORPHOUS GD-CO-CU PROPERTIES

被引：8

作者：

ALBERT, PA ^{[1
]}

GUARNIERI, CR ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,RES LAB,SAN JOSE,CA 95193

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569105

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：138 / 140

页数：3

共 6 条

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