SUMMARY ABSTRACT - PHOTOABLATION OF PHOTORESIST POLYMER THIN-FILMS USING SYNCHROTRON RADIATION

被引：1

作者：

MANCINI, DC ^{[1
]}

TAYLOR, JW ^{[1
]}

BEALL, CE ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV WISCONSIN,MAT SCI PROGRAM,MADISON,WI 53706

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583975

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：461 / 462

页数：2

共 6 条

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