UV LASER INCORPORATION OF DOPANTS INTO SILICON - COMPARISON OF 2 PROCESSES

被引:18
作者
FOGARASSY, EP
LOWNDES, DH
NARAYAN, J
WHITE, CW
机构
关键词
D O I
10.1063/1.335982
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:2167 / 2173
页数:7
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