EROSION OF MATERIALS IN MOLTEN SILICON

被引：33

作者：

CHANEY, RE ^{[1
]}

VARKER, CJ ^{[1
]}

机构：

[1] MOTOROLA INC,DIV SEMICOND PROD,PHOENIX,AZ 85008

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2132955

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：846 / 852

页数：7

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共 6 条

[1] CHANEY RW, TO BE PUBLISHED
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[J]. MATERIALS RESEARCH BULLETIN, 1972, 7 (08) : 731 - &
[3] Vitreous Carbon - A New Form of Carbon
Cowlard, F. C.
Lewis, J. C.
[J]. JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE, 1967, 2 (06) : 507 - 512
[4] LAUDISE RA, 1970, GROWTH SINGLE CRYSTA, P187
[5] RUNYAN WR, 1965, SILICON SEMICONDUCTO, P18
[6] TAKANO T, 1973, SEMICONDUCTOR SILICO, P469