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ANALYSIS AND EXPERIMENTATION ON FIMOS (N-CHANNEL FAMOS) DEVICES
被引:7
作者
:
HAGIWARA, T
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机构:
HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
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HAGIWARA, T
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TAKEDA, E
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
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HORIUCHI, M
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
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HORIUCHI, M
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KONDO, R
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ITOH, Y
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HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
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ITOH, Y
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机构
:
[1]
HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1977年
/ 16卷
关键词
:
D O I
:
10.7567/JJAPS.16S1.211
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页数:4
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共 4 条
[1]
GEAR G, 1976, RELIABILITY PHYSICS
[2]
LEE GA, 1964, PHYS REV, V134, pA761
[3]
ELECTRICALLY REPROGRAMABLE NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY
TARUI, Y
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HAYASHI, Y
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HAYASHI, Y
[J].
IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITS,
1972,
SC 7
(05)
: 369
-
&
[4]
TARUI Y, 1972, J JAP SOC APPL PHY S, V41, P155
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共 4 条
[1]
GEAR G, 1976, RELIABILITY PHYSICS
[2]
LEE GA, 1964, PHYS REV, V134, pA761
[3]
ELECTRICALLY REPROGRAMABLE NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY
TARUI, Y
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NAGAI, K
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1972,
SC 7
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: 369
-
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TARUI Y, 1972, J JAP SOC APPL PHY S, V41, P155
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