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A NEW INTERFEROMETRIC DISPLACEMENT-DETECTION METHOD FOR MASK-TO-WAFER ALIGNMENT USING SYMMETRICALLY-ARRANGED THREE GRATINGS
被引：4
作者：
ITOH, J
KANAYAMA, T
机构：
来源：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS
|
1986年
/
25卷
/
06期
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.25.L487
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：L487 / L489
页数：3
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