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ULTRAHIGH DOPING LEVELS OF GAAS WITH BERYLLIUM BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY
被引:40
作者
:
LIEVIN, JL
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0
LIEVIN, JL
ALEXANDRE, F
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ALEXANDRE, F
机构
:
来源
:
ELECTRONICS LETTERS
|
1985年
/ 21卷
/ 10期
关键词
:
D O I
:
10.1049/el:19850293
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:413 / 414
页数:2
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共 4 条
[1]
INFLUENCE OF GROWTH TEMPERATURE ON BE INCORPORATION IN MOLECULAR-BEAM EPITAXY GAAS EPILAYERS
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RAO, EVK
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RAO, EVK
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1981,
39
(01)
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51
[2]
ENQUIST P, 1984, INT C MOL BEAM EPITA
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ILEGEMS, M
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机构:
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
ILEGEMS, M
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1977,
48
(03)
: 1278
-
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[4]
MELLET R, 1981, INT S GAAS RELATED C
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[1]
INFLUENCE OF GROWTH TEMPERATURE ON BE INCORPORATION IN MOLECULAR-BEAM EPITAXY GAAS EPILAYERS
DUHAMEL, N
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[J].
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(01)
: 49
-
51
[2]
ENQUIST P, 1984, INT C MOL BEAM EPITA
[3]
BERYLLIUM DOPING AND DIFFUSION IN MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF GAAS AND ALXGA1-XAS
ILEGEMS, M
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机构:
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
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ILEGEMS, M
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1977,
48
(03)
: 1278
-
1287
[4]
MELLET R, 1981, INT S GAAS RELATED C
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