BLAZING OF HOLOGRAPHIC GRATING BY ION ETCHING TECHNIQUE

被引：21

作者：

AOYAGI, Y ^{[1
]}

NAMBA, S ^{[1
]}

机构：

[1] INST PHYS & CHEM RES,WAKO 351,SAITAMA,JAPAN

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 15卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.15.721

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：721 / 722

页数：2

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共 5 条

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