OXYGEN-CHEMISORPTION AND OXIDE FORMATION ON SI(111) AND SI(100) SURFACES

被引:273
作者
HOLLINGER, G [1 ]
HIMPSEL, FJ [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1983年 / 1卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.572199
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
收藏
页码:640 / 645
页数:6
相关论文
共 18 条