DEFECTS IN STRUCTURE OF ELECTRODEPOSITED COPPER

被引:16
作者
HOFER, EM
CHOLLET, LF
HINTERMANN, HE
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2423382
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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