EVAPORATION RATE OF A LIQUID FROM THE SURFACE OF A ROTATING-DISK IN HIGH-VACUUM

被引:16
作者
KAPLON, J [1 ]
KAWALA, Z [1 ]
SKOCZYLAS, A [1 ]
机构
[1] TECH UNIV WROCLAW,INST CHEM ENGN & HEATING EQUIPMENT,PL-50373 WROCLAW,POLAND
关键词
D O I
10.1016/0009-2509(86)87033-6
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
引用
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页码:519 / 522
页数:4
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