ANALYSIS OF A REACTIVE SPUTTER ION PLATING DISCHARGE FOR TIN DEPOSITION USING OPTICAL-EMISSION SPECTROSCOPY

被引：14

作者：

RICARD, A ^{[1
]}

MICHEL, H ^{[1
]}

JACQUOT, P ^{[1
]}

GANTOIS, M ^{[1
]}

机构：

[1] ECOLE NATL SUPER MET & IND MINES,CNRS,GENIE MET LAB 159,F-54042 NANCY,FRANCE

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(85)90030-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：67 / 73

页数：7

共 7 条

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