INTERFACIAL REACTION IN MOS STRUCTURES

被引：8

作者：

ALESSANDRINI, EI ^{[1
]}

CAMPBELL, DR ^{[1
]}

TU, KN ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1976年 / 13卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568952

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：55 / 57

页数：3

共 6 条

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