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ATOMIC DISPLACEMENTS AT SURFACE OF SI-WAFER(111)
被引：23
作者：
KASHIHARA, Y
KAWAMURA, K
KASHIWAGURA, N
HARADA, J
机构：
来源：
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS
|
1987年
/
26卷
/
06期
关键词：
D O I：
10.1143/JJAP.26.L1029
中图分类号：
O59 [应用物理学];
学科分类号：
摘要：
引用
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页码：L1029 / L1031
页数：3
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