CONDUCTIVITY MODULATION AT METALLIC POINT-DEFECTS

被引:3
作者
LANDAUER, R [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1016/0375-9601(75)90212-1
中图分类号
O4 [物理学];
学科分类号
0702 ;
摘要
引用
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页数:2
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