REDEPOSITION - FACTOR IN ION-BEAM ETCHING TOPOGRAPHY

被引：19

作者：

CHAPMAN, RE ^{[1
]}

机构：

[1] PLESSEY CO LTD,ALLEN CLARK RES CTR,TOWCESTER,NORTHAMPTONSHIR,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1007/BF02426849

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1125 / 1133

页数：9

共 6 条

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