A JET ELECTROPOLISHING SOLUTION FOR SILICON, GERMANIUM, TANTALUM, NIOBIUM, AND TUNGSTEN-RHENIUM

被引:8
作者
KESTEL, BJ
机构
关键词
D O I
10.1016/0304-3991(82)90099-7
中图分类号
TH742 [显微镜];
学科分类号
摘要
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页数:5
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共 1 条
[1]  
KESTEL BJ, 1981, ANL80120 REP