RESISTIVITY AND HALL-EFFECT OF EUSE IN FIELDS UP TO 150 KOE

被引:104
作者
SHAPIRA, Y
FONER, S
OLIVEIRA, NF
REED, TB
机构
[1] MIT, FRANCIS BITTER NATL MAGNET LAB, CAMBRIDGE, MA 02139 USA
[2] MIT, LINCOLN LAB, LEXINGTON, MA 02173 USA
关键词
D O I
10.1103/PhysRevB.10.4765
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
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页码:4765 / 4780
页数:16
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