MULTIPLE MULTIPLE-EXPOSURE HOLOGRAM

被引:12
作者
JOHNSON, KM [1 ]
ARMSTRONG, M [1 ]
HESSELINK, L [1 ]
GOODMAN, JW [1 ]
机构
[1] STANFORD UNIV,STANFORD,CA 94305
来源
APPLIED OPTICS | 1985年 / 24卷 / 24期
关键词
D O I
10.1364/AO.24.004467
中图分类号
O43 [光学];
学科分类号
070207 ; 0803 ;
摘要
引用
收藏
页码:4467 / 4472
页数:6
相关论文
共 15 条