STRUCTURE STUDIES OF FERROELECTRIC VACUUM DEPOSITS

被引：8

作者：

TOMASHPOLSKI, YY ^{[1
]}

机构：

[1] KARPOV INST PHYS CHEM, MOSCOW, USSR

来源：

FERROELECTRICS | 1974年 / 7卷 / 1-4期

关键词：

D O I：

10.1080/00150197408238012

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：253 / 255

页数：3

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共 3 条

[1]

Slack J. R., 1970, Thin Solid Films, V6, P233, DOI 10.1016/0040-6090(70)90122-7

[2]

TOMASHPOLSKI YY, 1974, ISVESTIA ACADEMII NM, V10

[3]

TOMASHPOLSKI YY, 1973, PHYSICA TVERDOGO TEL, V15, P2840