LACQUER INITIATED ELECTROLESS DEPOSITS FOR RFI-EMI SHIELDING

被引:3
作者
GOULD, AJ
WAKE, SJ
机构
来源
TRANSACTIONS OF THE INSTITUTE OF METAL FINISHING | 1987年 / 65卷
关键词
D O I
10.1080/00202967.1987.11870771
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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页码:58 / 59
页数:2
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