INELASTIC LIGHT-SCATTERING STUDIES OF SILICON CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION (CVD) SYSTEMS

被引:58
作者
SEDGWICK, TO [1 ]
SMITH, JE [1 ]
GHEZ, R [1 ]
COWHER, ME [1 ]
机构
[1] IBM CORP,TJ WATSON RES CTR,YORKTOWN HEIGHTS,NY 10598
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(75)90140-2
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
引用
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页码:264 / 273
页数:10
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