MICROHARDNESS AND OTHER PROPERTIES OF HYDROGENATED AMORPHOUS-SILICON CARBIDE THIN-FILMS FORMED BY PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：36

作者：

BAYNE, MA ^{[1
]}

KUROKAWA, Z ^{[1
]}

OKORIE, NU ^{[1
]}

ROE, BD ^{[1
]}

JOHNSON, L ^{[1
]}

MOSS, RW ^{[1
]}

机构：

[1] PACIFIC NW LABS, RICHLAND, WA 99352 USA

来源：

THIN SOLID FILMS | 1983年 / 107卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(83)90022-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：201 / 206

页数：6

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共 6 条

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