ELECTRON-SPIN RESONANCE STUDY OF PHOTOSENSITIZED RADICAL FORMATION IN N-HEXANE BY BENZOIC-ACID

被引：4

作者：

TAKESHITA, T ^{[1
]}

TSUJI, K ^{[1
]}

机构：

[1] SUMITOMO CHEM CO LTD, CENTR RES LAB, TAKATSUKI, OSAKA, JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1021/j100595a004

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：105 / 107

页数：3

共 8 条

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