SI DEPTH PROFILE AND CONTAMINANTS IN SI-DOPED AL FILM

被引：6

作者：

CHANG, CC ^{[1
]}

SHENG, TT ^{[1
]}

SPEENEY, DV ^{[1
]}

FRASER, DB ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1976年 / 47卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1063/1.322893

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1790 / 1794

页数：5

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共 6 条

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