ETCHED HILLOCKS IN BATIO3

被引：14

作者：

STADLER, HL

机构：

来源：

JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1963年 / 34卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1063/1.1729310

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：570 / &

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