MATERIAL DESIGN OF RADIATION RESISTANT POLYPROPYLENE .2. IMPORTANCE OF THE SMECTIC STRUCTURE PRODUCED BY QUENCHING TREATMENT

被引：34

作者：

NISHIMOTO, S ^{[1
]}

KAGIYA, T ^{[1
]}

WATANABE, Y ^{[1
]}

KATO, M ^{[1
]}

机构：

[1] RES INST POLYMERS & TEXT,TSUKUBA,IBARAKI 305,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0141-3910(86)90043-1

中图分类号：

O63 [高分子化学（高聚物）];

学科分类号：

070305 ; 080501 ; 081704 ;

摘要：

引用

页码：199 / 208

页数：10

共 6 条

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