SECONDARY-ELECTRON EMISSION DURING ION-IMPLANTATION

被引：4

作者：

HEIMANN, PA

BLAKESLEE, J

机构：

[1] AT&T Bell Lab, Murray Hill, NJ,, USA, AT&T Bell Lab, Murray Hill, NJ, USA

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1986年 / 133卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2108675

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

SEMICONDUCTOR MATERIALS

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页码：779 / 780

页数：2

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