NEW APPROACH TO ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY

被引：17

作者：

FULTON, TA

DOLAN, GJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.94050

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：752 / 754

页数：3

相关论文

共 7 条

[1] CASIMIR G, UNPUB
[2] FRAKENTHAL RP, 1978, PASSIVITY METALS
[3] Glang R., 1970, HDB THIN FILM TECHNO, P7, DOI [10.1149/1.2408101, DOI 10.1149/1.2408101]
[4] LEPSELTER, 1981, VLSI ELECTRONICS MIC, V1, P83
[5] LEPSELTER MP, 1981, VLSI ELECTRONICS MIC, V1, P83
[6] ROMANKIW LT, 1976, 1976 P S ETCH PATT D, P161
[7] TOMASKOV ND, 1967, PASSIVITY PROTECTION