CHEMICAL-CHANGES IN CHROMIUM SILICIDE THIN-FILMS AS A RESULT OF LASER TRIMMING AS DETERMINED BY SAM AND XPS

被引：5

作者：

MASTERS, RG ^{[1
]}

机构：

[1] HARRIS SEMICOND,DEPT ANALYT SERV,MELBOURNE,FL 32901

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1985年 / 3卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.573259

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：324 / 330

页数：7

共 11 条

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