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RESPONSIVE OFFICE ENVIRONMENTS
被引:18
作者
:
ELROD, S
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机构:
Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
ELROD, S
HALL, G
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Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
HALL, G
COSTANZA, R
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Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
COSTANZA, R
DIXON, M
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Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
DIXON, M
RIVIERES, JD
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机构:
Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
RIVIERES, JD
机构
:
[1]
Xerox PARC, Palo Alto, CA 94304
来源
:
COMMUNICATIONS OF THE ACM
|
1993年
/ 36卷
/ 07期
关键词
:
D O I
:
10.1145/159544.159626
中图分类号
:
TP3 [计算技术、计算机技术];
学科分类号
:
0812 ;
摘要
:
[No abstract available]
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机构:
UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
LOVEDAY, DL
VIRK, GS
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UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
VIRK, GS
[J].
APPLIED ENERGY,
1992,
41
(03)
: 201
-
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LOVEDAY, DL
VIRK, GS
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UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
UNIV SHEFFIELD,DEPT AUTOMAT CONTROL & SYST ENGN,SHEFFIELD S1 3JD,S YORKSHIRE,ENGLAND
VIRK, GS
[J].
APPLIED ENERGY,
1992,
41
(03)
: 201
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