ELECTRON-PROJECTION MICROFABRICATION SYSTEM

被引:71
作者
HERITAGE, MB [1 ]
机构
[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期
关键词
D O I
10.1116/1.568475
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1135 / 1145
页数:11
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共 6 条
  • [1] Glaser W., 1952, GRUNDLAGEN ELEKTRONE
  • [2] JANDELEIT O, 1959, OPTIK, V16, P87
  • [3] KOOPS H, 1973, OPTIK, V38, P246
  • [4] ELECTRON PROJECTION SYSTEMS
    KOOPS, H
    [J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1973, 10 (06): : 909 - 912
  • [5] POLITYCKI W, 1975, SIEMENS RES DEV REP, V3, P162
  • [6] Magnetic electron lens without image rotation.
    Stabenow, G.
    [J]. ZEITSCHRIFT FUR PHYSIK, 1935, 96 (9-10): : 634 - 642