PLASMA ETCHING OF THIN METAL AND DIELECTRIC FILMS

被引：4

作者：

BERSIN, RL ^{[1
]}

机构：

[1] INT PLASMA CORP,31159 SAN BENITO ST,HAYWARD,CA 94544

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1976年 / 13卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568815

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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