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APPLICATIONS OF RAPID THERMAL-PROCESSING TO SILICON EPITAXY
被引：4
作者：
BURNS, GP
WILKES, JG
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/3/5/003
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
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页码：442 / 447
页数：6
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