F2 REACTIONS AS POSSIBLE LASER CANDIDATES

被引:3
作者
DAVIS, SJ [1 ]
HAGER, G [1 ]
HADLEY, SG [1 ]
机构
[1] USAF,WEAP LAB,DEVICE BRANCH,ADV LASER TECHNOL DIV,KIRTLAND AFB,NM 87117
关键词
D O I
10.1109/JQE.1975.1068781
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:1
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