CONTROL-SYSTEM DESIGN AND ALIGNMENT METHODS FOR ELECTRON LITHOGRAPHY

被引:15
作者
ALLES, DS [1 ]
ASHLEY, FR [1 ]
JOHNSON, AM [1 ]
TOWNSEND, RL [1 ]
机构
[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期
关键词
D O I
10.1116/1.568510
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1252 / 1256
页数:5
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