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CONTROL-SYSTEM DESIGN AND ALIGNMENT METHODS FOR ELECTRON LITHOGRAPHY
被引:15
作者
:
ALLES, DS
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0
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0
机构:
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
ALLES, DS
[
1
]
ASHLEY, FR
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BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
ASHLEY, FR
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JOHNSON, AM
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BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
JOHNSON, AM
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TOWNSEND, RL
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BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
TOWNSEND, RL
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1
]
机构
:
[1]
BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
|
1975年
/ 12卷
/ 06期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.568510
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:1252 / 1256
页数:5
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