CONTROL-SYSTEM DESIGN AND ALIGNMENT METHODS FOR ELECTRON LITHOGRAPHY

被引：15

作者：

ALLES, DS ^{[1
]}

ASHLEY, FR ^{[1
]}

JOHNSON, AM ^{[1
]}

TOWNSEND, RL ^{[1
]}

机构：

[1] BELL TEL LABS INC,MURRAY HILL,NJ 07974

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1975年 / 12卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.568510

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1252 / 1256

页数：5