ULTRAFAST DEEP UV LITHOGRAPHY WITH EXCIMER LASERS

被引：61

作者：

JAIN, K ^{[1
]}

WILLSON, CG ^{[1
]}

LIN, BJ ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

ELECTRON DEVICE LETTERS | 1982年 / 3卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1109/EDL.1982.25476

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：53 / 55

页数：3

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共 6 条

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