FURTHER STUDIES OF LEVELING USING RADIOTRACER TECHNIQUES

被引：11

作者：

BEACOM, SE

RILEY, BJ

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1960年 / 107卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2427892

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：785 / 787

页数：3

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共 3 条

[1] A RADIOISOTOPIC STUDY OF LEVELING IN BRIGHT NICKEL ELECTROPLATING BATHS
BEACOM, SE
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