HIGH-TC Y-BA-CU-O THIN-FILMS PREPARED BY DUAL MAGNETRON SPUTTERING

被引：24

作者：

ASANO, H

TANABE, K

KATOH, Y

KUBO, S

MICHIKAMI, O

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1987年 / 26卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.26.L1221

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1221 / L1222

页数：2