CHARACTERIZATION OF ION-IMPLANTED SILICON - CORRELATION OF OPTICAL MEASUREMENTS WITH MICROSTRUCTURAL OBSERVATIONS

被引:7
作者
DONLON, WT [1 ]
JAMES, JV [1 ]
BOMBACK, JL [1 ]
HUO, CR [1 ]
WANG, CC [1 ]
机构
[1] WAYNE STATE UNIV,DETROIT,MI 48202
关键词
D O I
10.1016/0304-3991(87)90074-X
中图分类号
TH742 [显微镜];
学科分类号
摘要
19
引用
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页码:305 / 317
页数:13
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