未找到相关数据
AN INFRARED STUDY OF THE PRODUCTION, DIFFUSION AND COMPLEXING OF INTERSTITIAL BORON IN ELECTRON-IRRADIATED SILICON
被引：41
作者：
TIPPING, AK
NEWMAN, RC
机构：
关键词：
D O I：
10.1088/0268-1242/2/7/001
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
收藏
页码：389 / 398
页数：10
相关论文