CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF INSULATING FILMS USING NITROGEN TRIFLUORIDE

被引：14

作者：

FURUKAWA, Y

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS | 1984年 / 23卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.23.376

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：376 / 377

页数：2

共 5 条

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