EVALUATION OF REGISTRATION PERFORMANCE OF IBM EL-3 E-BEAM MASK MAKING SYSTEM

被引：4

作者：

HSIA, LC

WEBER, EV

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583194

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

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页码：128 / 130

页数：3

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共 2 条

[1]

HSIA L, 1983, SPIE OPT MICROLITHOG, V394, P206

[2] EL-3 - A HIGH THROUGHPUT, HIGH-RESOLUTION E-BEAM LITHOGRAPHY TOOL [J].

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1981, 19 (04) :950-952