EFFECT OF COMPRESSIVE STRESS ON REACTION-DIFFUSION IN CU-SI SYSTEM

被引：20

作者：

ONISHI, M

MIURA, H

机构：

[1] KYUSHU INST TECHNOL,DEPT MET,KITAKYUSHU 804,JAPAN

[2] KYUSHU INST TECHNOL,GRAD SCH,KITAKYUSHU,JAPAN

来源：

TRANSACTIONS OF THE JAPAN INSTITUTE OF METALS | 1977年 / 18卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.2320/matertrans1960.18.107

中图分类号：

TF [冶金工业];

学科分类号：

0806 ;

摘要：

引用

页码：107 / 112

页数：6

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