A HYDROGEN PLASMA DIAGNOSTIC BASED ON PD METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR DIODES

被引:10
作者
BASTASZ, R [1 ]
HUGHES, RC [1 ]
机构
[1] SANDIA NATL LABS,ALBUQUERQUE,NM 87185
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1986年 / 4卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.573860
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
收藏
页码:629 / 630
页数:2
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共 2 条
[2]   HYDROGEN SENSITIVE MOS-STRUCTURES .1. PRINCIPLES AND APPLICATIONS [J].
LUNDSTROM, I .
SENSORS AND ACTUATORS, 1981, 1 (04) :403-426