THE BEHAVIOR OF DOPED HG1-XCDXTE EPITAXIAL LAYERS GROWN FROM HG-RICH MELTS

被引:48
作者
KALISHER, MH
机构
关键词
D O I
10.1016/0022-0248(84)90288-4
中图分类号
O7 [晶体学];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
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页码:365 / 372
页数:8
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